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HIPIMS和HIPIMS+
物理气相沉积涂层(PVD 涂层)主要是由电弧蒸发或磁控溅射沉积

运用HIPIMS和HIPIMS+技术制备出致密、无缺陷的涂层

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       汇成真空已研制出一种可替代的HIPIMS技术,即HIPIMS+技术,此技术非常适用于涂层, HIPIMS+具有较高的沉积速率,可比电弧蒸发,这使得HIPIMS+技术可广范应用于工业领域。HIPIMS+另一个优点是能更好的利用靶材,并在保持高硬度的同时拥有可调谐的应力,一些HIPIMS+涂层适用于低温涂层,许多不同的物理气相沉积涂层可应用于HIPIMS+技术,如TiN, TiAlN, TiCN, CrN, Cr2N。

       HIPIMS+经测试表明适用于模具,模块,铣刀片,螺纹车削刀片,铣刀和水龙头,HIPIMS和HIPIMS+技术都能制备出致密,无缺陷的涂层,这两种技术都可以在汇成真空生产的真空镀膜设备上应用,当然也可以在汇成真空现有的PVD涂层设备上进行升级。

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